产品名称：多功能仪表校验仪 生产厂家 交流采样变送器校验仪 交流标准源

HN8001A三相交直流指示仪表，电测仪表检定装置 多功能仪表校验仪 生产厂家 交流采样变送器校验仪 交流标准源

车高平 13608980122/15689901059本装置可自动或手动检验电力系统中工频电表（电压表、电流表、功率表、频率表、功率因数表、相位表）、单相交流电能表（选项）、三相交流电能表（选项）以及直流电压、电流表的基本误差。光纤光栅传感系统可测量船体的弯曲应力，而且可测量海浪对湿甲板的抨击力。具有干涉探测性能的16路光纤光栅复用系统成功实现了带宽为5kHz范围内、分辨率小于1ne/(Hz)1/2的动态应变测量。另外，为了监测一架飞行器的应变、温度、振动，起落驾驶状态、超声波场和加速度情况，通常需要1多个传感器，故传感器的重量要尽量轻，尺寸尽量小，因此灵巧的光纤光栅传感器是的选择。另外，实际上飞机的复合材料中存在两个方向的应变，嵌人材料中的光纤光栅传感器是实现多点多轴向应变和温度测量的理想智能元件。
 技术参数：

整机有效精度 0.05级

3．1  交流电压量程 50V，100V，200V，400V，800V    输出容量 20VA；

3．2  交流电流量程 0.5A，1A ，2.5A，5A，10A，20A 输出容量 20VA；

3．3  交流电压、电流调节范围 0∽120% FS（800V量程除外）， 调节细度 5×10^－5；

3．4  工频交流电压、电流、有功功率准确度    0.05% FS；

3．5  无功功率准确度    0.1% FS

3．6  电流对同名相电压的相位准确度 0.05⁰；

     多功能仪表校验仪 生产厂家 交流采样变送器校验仪 交流标准源考古学是依据古代物质**以了解古代人类行为与当时社会文化的学问，研究古代遗迹，获取其丰富的潜在信息，探索古代人类社会历史以及人类与自然的相互关系。“科技考古”是2世纪中期出现的一个新的考古学派，利用自然科学和考古学的理论、方法和手段，研究古代实物遗存，获取丰富的“潜”信息，以探索人与自然的关系以及古代人类社会历史的科学。科技考古——X荧光光谱在考古研究中，X射线荧光光谱属于无损，主要是测定古物中的成分，从而达到目的，进而推断和判断当时的人类社会文化。

 交流源操作

在主菜单中，按“1”键进入“源操作”界面，在“源操作”界面中按“1”则显示如图4。在这里，可根据需要对交流源输出进行设置。图的上半部分（输出检测）显示内置标准所测得的各相电压、电流、功率、功率因数和频率值。下半部分用于设置输出档位，设置各相电压、电流幅值，设置功率因数和相角，设置各次谐波幅值、角度，设置频率。

压控振荡器VoltageControlledOscillator（简称VCO）是射频电路的重要组成部分，在通信、电子、航天、及医学等诸多领域的用途十分广泛，尤其在通信系统电路中更是与功放具有同等重要地位的的关键部件。伴随采用新体制、新技术、新材料和新工艺的现代通信、雷达、电子干扰和电子侦察等电子信息系统的发展，对电子设备及其关键部件VCO的要求也越来越高，而VCO在端接不同负载阻抗下会出现频率偏移现象，由此导致电子设备工作不稳定甚至出现失效，产生严重影响，因此解决VCO的非线性特性（如频率牵引）测试问题并由此实现匹配显得日益重要和紧迫。

直流源操作

在主菜单中，按“1”键进入“源操作”界面，在“源操作”界面中按“2”则显示如图7。

在这里，可根据需要对直流源输出进行设置。通过显示器下边和右边的按键根据提示设置直流电压和电流的档位、输出值。

目前工业领域Wi-Fi模块产品的性能良莠不齐，差异巨大，如何挑选一款稳定可靠的Wi-Fi模块却成了许多工程师的难题。稳定可靠是应用于工业领域的前提目前工业领域Wi-Fi模块产品的性能良莠不齐，差异巨大，如何挑选一款稳定可靠的Wi-Fi模块成为许多工程师的难题。那么，目前的Wi-Fi方案厂商——博通（Broadcom）成为了我们必然之选，这为模块的可靠性奠定了坚实的基础，加上足足一年的研发稳定性修正测试，也将是您的必然之选。

 交流指示仪表半自动检测

5.4.1.1  在指示仪表校验子菜单（图10）中按“1”后，显示如图11。图的上半部分显示内置标准所测得的各相电压、电流、功率、功率因数和频率值。下半部分用于输入被检表一次值、二次值、计量单位、额定值、上限值和均匀校验点数等信息。

大陆封测产业的机遇摩尔定律由英特尔创始人之一戈登摩尔提出，大致意思为，每隔18-24个月在价格不变的情况下，集成电路上可容纳的元器件数目会翻一倍，性能也将提升一倍。这一定律统治了半导体产业50多年，近些年却屡屡被预估将要走向终结，而者中甚至包括摩尔本人。而这条金科玉律走向末路的佐证之一便是英特尔修改了基于摩尔定律的“Tick-Tock”策略，将这一架构和工艺交替升级策略的研发周期在时间上从两年延长至三年，制程工艺变为三代一升级，并且其10nm制程一直跳票。